施樂公司承諾公開又一項專利,，以支持保護地球計劃
陶氏化學公司與由美國施樂公司和富士膠片控股公司合資創(chuàng)建的富士施樂公司已經(jīng)雙雙加盟生態(tài)專利共享計劃 (Eco-Patent Commons),。該計劃是世界可持續(xù)發(fā)展工商理事會 (WBCSD) 啟動的同類首個商業(yè)項目,，旨在通過向公眾公開分享各種環(huán)保型專利來實現(xiàn)改善環(huán)境的目的,。
相關(guān)環(huán)保專題：http://www.bioon.com/z/globalWarming/
最新承諾公開的專利包括：
-- 陶氏開發(fā)的一項技術(shù)。該技術(shù)能夠通過降低加工過程中能源和材料的消耗,，從而實現(xiàn)更有效的烯烴生產(chǎn),。烯烴是許多用于包裝、電子產(chǎn)品,、粘合劑,、耐用品及其它應(yīng)用材料的基本結(jié)構(gòu)成分。與現(xiàn)有技術(shù)相比,，這些專利所具備的幾項優(yōu)勢能提高烯烴的生產(chǎn)效率--包括延長催化劑的使用壽命,，減緩反應(yīng)堆中的壓強隨著時間的推移而加劇下降，從而降低催化劑的更換頻率,。
-- 富士施樂研發(fā)的廢水處理方法,。
WBCSD 主席 Bjorn Stigson 表示：“我們非常歡迎陶氏化學公司和富士施樂公司加盟 Eco-Patent Commons。各企業(yè)將能通過這種方式推廣它們的專利和分享研發(fā)投資成果，從而展示它們在可持續(xù)發(fā)展方面的真正領(lǐng)導(dǎo)力,。Eco-Patent Commons 的規(guī)模還在不斷發(fā)展壯大,，總之，這些公開的專利將成為那些致力于節(jié)能,、減廢和水處理等領(lǐng)域的個人和企業(yè)的寶貴資源,。”
陶氏承諾公開的專利
這兩項專利描述了預(yù)塑形多孔載體材料（含一種活性化合物）組成的催化劑在碳氫化合物脫氫過程中的制備和應(yīng)用。
化合物（如碳氫化合物）的脫氫是一種被廣泛應(yīng)用的大規(guī)模工藝,。例如：烷烴脫氫為烯烴（如丙烷到丙烯,，丁烷到丁烯）以及烷基芳香烴化合物脫氫為烯基芳香烴化合物（如乙苯到苯乙烯）。
富士施樂承諾公開的專利
富士施樂承諾提供兩項有關(guān)廢水有效處理的專利,。該廢水處理工藝通過利用聚硅酸鐵或分離表面活性劑將廢水中特殊的化學物質(zhì)進行凝結(jié)和分離,，從而對工廠排放出來的廢水實現(xiàn)有效處理，并且在不破壞環(huán)境的條件下減少凝聚劑和由此產(chǎn)生的沉淀物的數(shù)量,。
施樂公司承諾提供的又一項專利
美國施樂公司去年就已成為 Eco-Patent Commons 中的一員,，當時該公司公開分享了11項專利，其中一項工藝能夠?qū)耐寥篮退腥コ卸緩U物所花費的時間從數(shù)年縮減到幾個月,。如今,，該公司還承諾提供另外一項專利。該專利所涉及的技術(shù)降低了磁制冷對環(huán)境的危害,。施樂的5,641,424號美國專利告訴人們,，如何在不利用消耗臭氧的制冷劑和消耗能源的壓縮機的情況下，開發(fā)并應(yīng)用一個能產(chǎn)生磁制冷效果的磁化解決方案,。常規(guī)的磁制冷工藝通常要使用氟氯化碳 (CFC) 和氫碳氟化合物 (HFC),，而這兩種化學物質(zhì)都會造成嚴重的溫室效應(yīng)。
自 IBM,、諾基亞 (Nokia),、必能寶 (Pitney Bowes) 和索尼 (Sony) 聯(lián)手 WBCSD 于2008年1月推出 Eco-Patent Commons 以來，來自全球各行各業(yè)的十一家公司已經(jīng)通過這項計劃公開分享了他們的創(chuàng)新成果,，并在節(jié)能和資源保護,、減少廢物排放和再利用等方面做出貢獻。這十一家公司包括：博世 (Bosch),、陶氏,、杜邦 (DuPont)、富士施樂,、IBM (NYSE: IBM),、諾基亞、必能寶,、理光 (Ricoh),、索尼,、日本大成建設(shè)集團 (TaISei) 和施樂。
Eco-Patent Commons 的會員資格面向所有愿意承諾公開其專利的個人和企業(yè)開放,。各組織可自行決定其承諾公開專利的選擇和提交方式,。會員公司和 WBCSD 邀請其它感興趣的公司加入 Eco-Patent Commons，共同參與這項推動創(chuàng)新與協(xié)作的活動,，支持保護地球計劃,。
